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如何從無水氯化氫氣體中除去高沸點(diǎn)污染物

返回  打印  發(fā)布時(shí)間:2013-6-12 點(diǎn)擊:7245

    氯化氫的純度是氯化氫品質(zhì)考核的重要標(biāo)準(zhǔn)。高純氯化氫常被用于單晶硅外延片制造,醫(yī)藥中間體、農(nóng)藥及精細(xì)化學(xué)品制造等。

    無水氯化氫氣體中除去高沸點(diǎn)污染物,例如氯代芳香化合物的方法,包括:壓縮含有污染物的氯化氫氣體;在第一冷卻段中,冷卻所述壓縮氣體至第二冷卻段出口溫度以上至少20℃,但在最高熔融化合物的冰點(diǎn)以上,在第二冷卻段中,進(jìn)一步將所述壓縮氣體冷卻到-20℃,將冷卻氣體從第二冷卻段返回第一冷卻段,并回收來自第一冷卻段和第二冷卻段的含污染物的冷凝物流。也公開了適用于進(jìn)行本方法的設(shè)備。

    公司現(xiàn)有年產(chǎn)2000噸高純氯化氫生產(chǎn)線,連續(xù)批量生產(chǎn)應(yīng)用于單晶硅外延片制造的5N(99.999%)電子級(jí)(VLSI)氯化氫,以及應(yīng)用于醫(yī)藥中間體、農(nóng)藥及精細(xì)化學(xué)品制造的2.8N(99.8%)化學(xué)級(jí)氯化氫。產(chǎn)品性能先進(jìn),質(zhì)量穩(wěn)定,處于國內(nèi)領(lǐng)先地位,達(dá)到國際先進(jìn)水平。

   

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